2024年全球干膜光刻胶市场规模达44亿美元，亚太市场占比达34%

干膜光刻胶是一种光敏材料，用于光刻或光刻工艺中，将其涂在表面以产生所需的成像图案，主要用于半导体和集成电路、印刷电路板、液晶显示器和其他应用。

2024年全球干膜光刻胶市场规模达44亿美元，预计到2029年将增至55亿美元。

实施类型细分

市场细分为：半导体和集成电路、液晶显示器、印刷电路板。

半导体和集成电路行业占全球光刻胶市场的最大份额，达35%。预计在预测期内，该领域仍将占据主导地位。

地区占比

干膜光刻胶市场分为五个区域，即北美、亚太地区、欧洲、中东和非洲以及拉丁美洲。2024年亚太地区以34%的最高份额主导市场。

全球干膜光刻胶市场规模（亿美元）及市场细分

 

数据来源：贝哲斯咨询

驱动因素

光阻技术的应用增加；

集成电路和半导体市场对该技术的需求不断增长。

竞争格局

干膜光刻胶市场的一些主要关键企业有旭化成（日本）、TOKYOOHKAKOGYOCO.(日本）、JSR公司（日本）、陶氏化学公司（美国）、富士胶片电子材料有限公司（日本）、信越化学工业株式会社（日本）、信越化学株式会社（Shin-EtsuChemicalCo.(日本）、住友化学工业株式会社（SumitomoChemicalsCo.(Ltd.（日本）、HITACHIChemical（日本）、和AZElectronicMaterials（卢森堡）

干膜光刻胶市场细分
1.类别细分
氩弧沉浸I-line	G-line		ArF		KrF
ArF浸渍领域将以3%的复合年增长率增长，具有低缺陷、高分辨率和窄波长等优异特性，还能避免对其他技术的需求，如强分辨率增强技术
2.类型细分
去除剂		抗反射涂层		显影剂
抗反射涂层是一种光学镀膜，用于光学元件表面以减少反射