2024年极紫外光刻行业竞争格局：北美为主要发展区域，占比达28.6%

光刻技术问世后，被广泛应用于微处理器，作为一种增强型光刻技术，极紫外光刻技术的出现推动了半导体行业的不断进步和突破。

2024年全球极紫外光刻市场规模达19.5亿美元，预计2032年将增至173.5亿美元。

一、地区占比

1.北美市场

2024年北美为主要发展区域，占据28.6%的市场份额，预测期内复合年增长率将高达25.5%。

2.欧洲市场

欧盟是世界领先的汽车制造商之一，对精密和自动化汽车日益增长的需求以及汽车行业的扩张推动了欧洲地区极紫外光刻市场的增长，2024年欧洲占据19.5%的市场份额。

3.亚太市场

亚太市场预计将迎来高速增长，台积电的发展和对极紫外光刻技术投资的增加是推动亚太极紫外光刻行业发展的两个最重要原因。

全球极紫外光刻市场规模（亿美元）及地区占比

 

数据来源：贝哲斯咨询

二、驱动因素

全球消费者中智能手机普及率的提高；

极紫外光刻技术越来越多地用于制造低成本、低功耗和低复杂性的微小电子芯片；

消费应用行业对性能和存储内存需求的增加；

城市化和数字化、包装行业需求的增长、新技术应用的增加、移动技术以及终端应用行业的发展都对极紫外光刻市场产生了有利影响。

三、制约因素

由于极紫外光刻技术仍处于早期发展阶段，用户意识的缺乏、未被发现的技术缺陷的可能性以及对该技术的认识不足是极紫外光刻市场增长的主要障碍；

此外，极紫外光刻技术设计复杂的反射镜的制造精度要求，也是制约极紫外光刻技术市场发展的因素。

极紫外光刻市场近期动态
时间	内容
2024年8月	日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个，以EUV光源为中心，整体耗电量可减至原来的约十分之一
2024年8月	三星传将减少ASML新一代极紫外光(EUV)光刻机的采购规模，双方在韩国建设研发中心的合作计划存在中断可能