全球光刻设备市场分析：2024年市场收入预估为246.54亿美元，日本为最大营收国

发布时间：2024年05月22日

光刻设备，作为一种投影曝光系统，是半导体制作工艺中的核心设备。它利用紫外光源、光学镜片以及对准系统等部件，将图案精确地投射到硅晶圆上，从而完成集成电路的制造。光刻设备的性能直接决定了半导体线路的精度、芯片功耗与性能，是半导体产业中不可或缺的一环。

细分类型介绍

据光源类型和应用场景划分

EUV光刻设备：采用极紫外光作为光源，适用于最先进节点的集成电路制造。
DUV光刻设备：使用深紫外光，适用于中高端半导体制造工艺。

据芯片制造工艺划分

湿法光刻设备：主要利用液态化学品进行刻蚀，其主要步骤包括涂胶、曝光和显影等过程。
干法光刻设备：利用气体等离子体或类似方法进行刻蚀，其特点是在化学气体的离子轰击下对硅片进行局部刻蚀。

市场发展概览

全球光刻设备市场是一个高度专业化的领域，其发展与半导体产业的兴衰紧密相连。近年来，随着消费电子、电动汽车、人工智能等领域的快速发展，对半导体的需求不断增长，从而推动了光刻设备市场的快速扩容。据贝哲斯的调研数据，2024年全球光刻设备市场收入预计将达246.54亿美元，较2023年增长10.39%。

未来几年内，全球光刻设备市场有望继续保持稳定增长。一方面，随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，光刻设备的性能将不断提升，满足更高精度的制造需求；另一方面，新兴市场的崛起和消费升级也将为光刻设备市场带来新的增长点。预计到2029年，全球光刻设备市场收入将增至402.29亿美元。

全球光刻设备市场收入及主要地区/国家份额预测